| 装备型号 | Nanofilm Industrial FCVA-400 Series |
|---|---|
| 阴极布局 | 地面滑轨立式移动安装 (Vertical Floor Mounted) |
| 视窗监控 | 高硼硅高真空耐压光学观察窗 (带遮光防护板) |
| 绝热材质 | 金色聚酰亚胺多层高真空反射膜 (Kapton MLI) |
| 扫描透镜 | CNC 航空铝阳极氧化双半环偏转线圈卡箍 |
| 等离子体离化率 | 近 100% (全碳离子体束流) |
|---|---|
| 磁过滤器偏转角 | 90° (圆弧顺磁过滤弯管) |
| 大颗粒拦截率 | 100% (完全消除微米级颗粒) |
| sp³ 杂化键占比 | ≥ 85% (真正的金刚石键) |
| 极限真空度 | < 5.0 × 10⁻⁵ Pa (分子泵+干泵系统) |
|---|---|
| 工作真空 | 2.0 × 10⁻⁴ Pa |
| 阴极源配置 | 高纯等静压水冷碳靶 (C ≥ 99.999%) |
| 引弧触发方式 | 高频伺服气动撞针高速拉弧（寿命 > 1,000,000 次） |
| 工件托盘装载 | 12 穴双公自转行星托盘 (φ280 mm) |
| 适用工件基体 | 碳化钨 (WC-Co)、单晶硅、不锈钢、超硬陶瓷 |
| 磁场强度 B | 20 ~ 30 mT (多段螺线管聚焦) |
|---|---|
| 阳极导向偏压 | +20 V (管道内壁电场约束) |
| 表面粗糙度 | Ra < 0.5 nm (原子级镜面) |
| 扫描频率 | 100 Hz ~ 200 Hz 光栅偏转 |
| 装夹容量 | 12 穴 (内圈 4 穴，外圈 8 穴) |
|---|---|
| 模仁材质 | 超细微粒碳化钨 (WC-Co 6%) |
| 镀层类型 | 无氢四面体非晶碳 (ta-C / FCVA) |
| 膜厚公差 | 150 nm ± 5 nm (全盘均匀度 < 3%) |
| 性能对比项目 | 新加坡纳峰 FCVA ta-C (推荐) | 普通含氢 DLC (a-C:H) | 磁控溅射 DLC | 传统 TiAlN 氮化物 |
|---|---|---|---|---|
| 膜层硬度 (Hardness) | 65 ~ 85 GPa (接近天然金刚石) | 18 ~ 25 GPa | 22 ~ 32 GPa | 28 ~ 35 GPa |
| sp³ 杂化碳键占比 | ≥ 85% (高致密四面体网络) | 30% ~ 45% | 40% ~ 55% | 不适用 |
| 表面粗糙度 (Ra) | < 0.8 nm (无宏观碳渣凸起点) | 3.5 ~ 6.0 nm | 2.0 ~ 4.0 nm | 8.0 ~ 15.0 nm |
| 高温抗粘模性能 (640℃) | 极佳 (化学惰性，绝不粘附玻璃) | 差 (400℃ 即发生石墨化软化) | 中等 (易局部微扩散) | 差 (氧化变色并微粘模) |
| 模仁使用寿命 | > 100,000 模次 (寿命延长 4~6 倍) | 15,000 ~ 20,000 模次 | 20,000 ~ 30,000 模次 | 8,000 ~ 12,000 模次 |